ASML艾司摩爾 贏在專業分工、投資研發

ASML艾司摩爾 贏在專業分工、投資研發

葉錦清/工研院IEK ITIS計畫產業分析師

艾司摩爾在20年前，只是一家荷蘭飛利浦與ASMI(Advanced Semiconductor Materials International)合資的小公司，位於飛利浦工廠附近一家木頭建造的工廠。

第一台曝光機也是賣給母公司飛利浦，半導體設備營收排名在20名外，然而因為掌握了半導體發展趨勢，發展出獨到的曝光機技術，不僅讓客戶競爭力提升，也讓自己晉升為全球半導體設備的龍頭。

艾司摩爾崛起的因素相當多，包括持續大量研發經費投入、早期母公司飛利浦的支持、在特定利基市場擁有核心競爭力等，還有幾項因素值得注意：

　1.專業分工，快速交貨

由於三星電子的垂直整合在市場獲致成功，因此許多學者又開始研究垂直整合的優點，但是艾司摩爾還是以專業分工取勝。俗話說，喝牛奶不需要養牛。艾司摩爾就是以不養牛的哲學，將設備模組化，然後做自己最專精的部分，其餘外包給專精於各模組的公司，產品生產時間自然縮短，交貨期相對於競爭對手變得有競爭力。

　2.提升機台相容性，增加客戶稼動率

艾司摩爾的產品不便宜，平均價格約2500萬歐元，約1億台幣，最貴機種大約5,000萬歐元一台，將近20億台幣，與競爭對手相比屬於高價產品，並非以低價取勝。

然而因為產品設計考量客戶的使用需求，稼動率高，每小時生產量高出競爭對手約20%，相對的提升客戶在成本的競爭力，因此甩開競爭對手，成為該領域的佼佼者。

　3.持續高營收比重投入研發

艾司摩爾以每年超過營收10%的比重投入研發，甚至在不景氣時更加碼投資研發，也因此在關鍵技術領先競爭對手。

這點值得台灣的科技業者學習，台灣有幾項科技產業，都是企業在遇到不景氣時減少或放棄研發投資，等景氣好轉或者產品被大眾接受之後，才開始繼續投入研發。

但是通常競爭對手已經領先好幾年，而且在專利上也布局更趨完整。這時候再去追趕，通常不是專利被卡死，就是要花費更多人力與物力。

企業個案研究－關鍵設備商 半導體三強搶著投資

一般人可能對艾司摩爾(ASML)這家公司不太熟悉，但它在半導體業界的影響力卻不容忽視。2012年7到8月，全球半導體業界三家頂尖企業英特爾(Intel)、台積電(TSMC)、三星電子(SAMSUNG Electronics)，紛紛出資入股艾司摩爾，總投資金額38.5億歐元(約1,500億台幣)。

這三家企業的營收與名氣都大幅超越艾司摩爾，卻也都非常積極出資入股該公司。目的很簡單，是希望在半導體先進製程領先同行，半導體產業在製程上的競爭相當激烈，只要製程稍微落後，就有可能輸掉整個競賽，掌控這個半導體先進製程關鍵設備製造商正是艾司摩爾。

突破日本寡佔局面

大約在1990年代，半導體曝光設備市場幾乎由日本廠商所掌控，光是尼康(NIKON)與佳能(CANON)就掌握了將近八成市場。那個時候，艾司摩爾的市占率不到二成。

後來艾司摩爾採取了專業分工的方式，首先將曝光設備模組化，將整個系統分成機台、光學系統、鏡片等，只生產自己擅長的模組與系統整合，其餘模組外包給專業廠商生產，例如鏡片部分，外包給德國專業鏡片廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)

據日本Electronic Journal的分析，艾司摩爾在半導體曝光設備的模組自製率只有15%，其餘85%為外包。由於專業分工，每家外包廠商只做自己專長的項目，因此容易量產，交貨期比較容易控制。

光這一點就對於二家日本廠商產生相當大的威脅，日本廠商習慣做垂直整合，Canon與Nikon都具備光學鏡片生產能力，但是因為垂直整合，所以產品的生產速度相對較慢，遇到客戶訂單成長時，常常來不及交貨，漸漸地流失一些重要客戶。

據說，也有廠商想模仿艾司摩爾的設備生產方式，將大部分業務以外包方式完成，但是其整合之後的設備，卻無法達到有如艾司摩爾的品質與規格，可見艾司摩爾雖然有85%的模組是委外，卻充分掌握系統整合的know how，以至於可以持續在曝光設備獨步全球。

助客戶提高稼動率

艾司摩爾在設計產品時，先把製程設備的相容性考慮進去，讓使用艾司摩爾生產設備的廠商可以獲得更好的稼動率，大約在85%以上。

日本廠商設計的設備生產情況是專機專用，產品稼動率約在30~70%，因此艾司摩爾半導體曝光設備，獲得台灣與韓國兩大半導體生產國廠商的支持，對於台灣與韓國這樣重視成本競爭力的廠商而言，艾司摩爾是具備吸引力的供應商，因此在曝光設備設的市佔率節節高升。

到了2002年，艾司摩爾市占率已經超越尼康，2007年艾司摩爾在半導體曝光設備市占率已經超過60%，尼康的市占只剩下20%，佳能的市占更不到20%。2010年，艾司摩爾在部分高階機種，市占率已經達到90%。

台積電與三星電子每年都進口不少艾司摩爾的曝光設備，即便韓國三星電子垂直整合做的這麼成功的公司，也無法生產出艾司摩爾相同的品質與規格的產品。

續拉高研發費比重

研發是一家公司得以永續發展的重要根基，台積電可說是台灣科技廠商投入研發比重高的公司，2012年研發投入約400億新台幣，占營收約8%，也因為長期投入高比重研發金額，得以在晶圓製造上領先全球，保持很高的市占率。

據工研院IEK的統計與分析，艾司摩爾在研發投入的比重一直保持在營收的10%以上，儘管在2009年遭遇金融海嘯，使艾司摩爾虧損約1.5億歐元，當年研發投入金額仍有約4.7億歐元，占營收約29.3%，研發金額的比重不降反升。

當景氣恢復之後，艾司摩爾的營收與獲利也大幅提升，2010年營收為45億歐元，相較2009年成長將近三倍，淨收入為10.2億歐元，也創下歷年新高。

過去台積電成功開發出「浸潤式曝光」，可以應用在28nm(奈米)製程，要實現產能，還得靠艾司摩爾生產的曝光機。隨著行動裝置逐漸普及，要印出更小的電路圖，浸潤式曝光逐漸步入極限。艾司摩爾開發的一個次世代方案，就是真空的超紫外光(EUV)技術，這種技術最高可以將線路精準度提升到7nm，只比一個分子稍微大一點，目前也只有艾司摩爾有這種能耐。

2013-01-30工商時報